第655章 光刻机第2/2段
众人听后，都不由地沉默起来，虽然芯片设计架构至关重要，但一时之间还无法改变，还摆脱不了两大芯片架构厂商的限制。
打造国产光刻机，才是中国众多芯片制造企业的梦想，而且是重中之重，不能让美国在光刻机设备上一直卡中国企业的脖子。
七十年代，中国在光刻机设备上曾经发展的不错，已经打造出中国自主研发的光刻机，虽然没有超越当时的世界先进水平，但和发达国家的光刻机相差并不大。
八十年代以来，由于可以购买到高性价比的国外光刻机，绝大多数芯片制造企业开始大量引进国外的光刻机，忽视了自主创新能力，使中国的光刻机研发在各方面都出现了脱节，从而让中国在光刻机领域再次落后于发达国家。
进入二十一世纪，中国大多数芯片制造企业才醒悟过来，正式启动193纳米光刻机项目，但这已经落后ASML公司二十多年，虽然中国在各方面急追猛赶，但始终没有在光刻机上取得历史性的突破。
而且我国光刻机的光源技术受限193纳米领域，一直无法进步，而且这个技术非常关键，导致ASML公司在后世如此强势，在美国主子的授权下，直接对中国制造芯片说不，禁止向中国芯片制造企业供应先进的光刻机。
所以，国产光刻机的研发刻不容缓，不但需要众多芯片制造企业的积极参与，还需要中国政府和科研力量的大力支持，毕竟这不是一家或两家芯片生产企业能完成的。
“李总，如果你想投资光刻机制造，我们都愿意加入进来，共同打造中国的光刻机。”
在座的几位大佬纷纷表示支持，愿意加入李向阳所倡导的新一代光刻机的制造计划，虽然他们投资甚少，但是如果昌隆电子研发成功，作为光刻机研发的合作伙伴，他们最终都会受益匪浅。
“好，让我们共同研发中国的光刻机！”
李向阳伸出手来，和在座的各位大佬逐一握手，初步达成了合作意向。
虽然前途依然渺茫，但是只有通过合作，中国的半导体企业才能走得更远。
后世独霸于光刻机设备生产的ASML公司，不但是一个集成组装生产商，还是全球化的受益者，其90%的零部件来自于外购，背后是美日韩、湾湾地区和德国的技术支撑，才能生产出极度复杂的EUV光刻机。
为了不让光刻机方面受制于人，李向阳等人必须提前布局，不但要急追猛赶，争取在荷兰公司研发出EUV光刻机之前，在光刻机制造方面取得一定的技术优势，还要兼并一些关键零部件和重要化学品企业。
特别是制造光刻机需要的光源，双工件台和反射镜，这些都是制造EUV光刻机的三大重要部件。
在光源方面，虽然攻克EUV光源十分重要，但是在主流的DUV光源方面，中国还很落后，因为ASML公司已经放弃157纳米的DUV光源，转向EUV光源技术。
所以，中国不但缺少研发光刻机的制造公司，还缺少研发光刻机光源的高科技企业。
在光刻机镜头方面，中国光学科研单位研发的速度十分缓慢，一直到2020年，都没有研制出什么实物。
就连DUV光刻机使用的透镜和核心的光学镜片、目前和光刻机光源一样，都不掌握在国内厂商的手中，要实现这两方面的突破，绝非一日之功，但是这一步是必须要走，而且是刻不容缓。
至于光刻机生产需要的工件台，虽然国内有企业已经开始研发双工件台，但双工作台的技术还很落后，估计目前刚摸索到一点光刻机双工件台的门槛。
除了这三大部件外，剩下的控制台，掩膜台等还至关重要，需要众多国内芯片制造企业继续摸索前进。
但是，中国芯片制造产业的发展，不仅仅是简单的芯片制造技术，还要在国内形成一条完整的国产化芯片产业链，而这个芯片产业链，既需要众多中国半导体企业通力合作，还需要中国政府和科研单位在芯片研发方面进行大力支持。
在开始时，只有少数的几家半导体企业加盟，但李向阳相信这支队伍以后会逐渐扩大，在所有半导体企业的共同努力下，一定生产出中国先进的光刻机。
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